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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆造成厂属于华东地地,最主要的制造制造8寸大光电器件晶圆,日访问量化工废水尾气排放物量约800吨。根据制造制造步骤中在使用过多氢氧化钠对其进行晶圆蚀刻,会导致化工废泥中氟化物浓硫酸浓度可以达到200-300mg/L,远超政府尾气排放物标准的(10mg/L以下的)。 废水处理工艺组成成分及来原 废液首要来源以下三个部门: 晶圆蚀刻制作工序 :含高密度氟化物(HF)、氰化钠及一点天价属 物理化学设备抛光剂(CMP)生产废水 :含微米级硅粒状、有机化学络合剂 生产设备拆洗工业废水 :含异丙醇、氧化还原电位等巧妙物 加工处理制作工艺注意事项 运用"化工滤渣出的+混凝土滤渣出的+高度活性炭过滤"四级解决装置: 考试内容一级治理 :加药系统氯化钙和氢氧化物钙,转变成氟化钙析出,氟化物祛除率达85% 二次元处里 :获取PAC(配位碱式氯化铝)和PAM(pp聚丙烯酰胺),祛除橡胶胶体部分态环境破坏物 三級进行处理 :能够 多导电介质过虑器和活力性炭气体吸附,冒水氟化物溶液浓度保持稳定在8mg/L以上 最为关键的专用设备还包括:pH手动可以调节系統、斜管积淀池、板框刮刀离心机(生活污水脱水烘干)。 之后功效 工程正常运行十年探测数据表格凸显: 氟化物平衡有机废气浓度:7.2mg/L(不超国内标淮) COD洗去率:92% 厌氧颗粒污泥含水量率:≤65% 年回收合理利用氟化钙副的产品约150吨,变现资源的化合理利用

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